సాధారణ ప్రయోజనం కోసం డైమండ్ స్లర్రీస్/ నిర్దిష్ట అనువర్తనాల కోసం డైమండ్ స్లర్రీలు
సాధారణ ప్రయోజనం కోసం డైమండ్ స్లరీస్
హైడ్రోక్వల్ అడ్వాన్స్‌డ్ పాలీక్రిస్టలైన్ (HAPD) డైమండ్ స్లర్రీ- హైడ్రో-బేస్డ్ పాలీక్రిస్టలైన్ డైమండ్ స్లర్రీ డిటోనేషన్-సింథసిస్ డైమండ్ పార్టికల్స్‌తో అడ్వాన్స్‌డ్ ఫార్ములేషన్ మ్యాట్రిక్స్‌తో తయారు చేయబడింది, ఇది మోహ్స్ స్కేల్‌లో చాలా ఎక్కువగా ఉండని మెటీరియల్‌లను అధిక ఖచ్చితత్వంతో లాపింగ్ చేయడానికి మరియు పాలిష్ చేయడానికి అనుకూలంగా ఉంటుంది.
హైడ్రోక్వల్ స్టాండర్డ్ పాలీక్రిస్టలైన్ (HSPD) డైమండ్ స్లర్రీ- హైడ్రో-బేస్డ్ పాలీక్రిస్టలైన్ డైమండ్ స్లర్రీ, డిటోనేషన్-సింథసిస్ డైమండ్ పార్టికల్స్‌తో ఒక స్టాండర్డ్ ఫార్ములేషన్ మ్యాట్రిక్స్‌తో తయారు చేయబడింది, ఇది మోహ్స్ స్కేల్‌లో చాలా ఎక్కువగా ఉండని మెటీరియల్‌లను అధిక ఖచ్చితత్వంతో ల్యాపింగ్ చేయడానికి మరియు పాలిష్ చేయడానికి అనుకూలంగా ఉంటుంది.
హైడ్రోక్వల్ అడ్వాన్స్‌డ్ పాలీక్రిస్టలైన్ (HAPH) డైమండ్ స్లర్రీ- హైడ్రో-ఆధారిత పాలీక్రిస్టలైన్ డైమండ్ స్లర్రీని అధిక-పీడన అధిక-ఉష్ణోగ్రత డైమండ్ పార్టికల్స్‌తో అధునాతన ఫార్ములేషన్ మ్యాట్రిక్స్‌లో తయారు చేస్తారు, ఇది మోహ్స్ స్కేల్‌పై చాలా ఎక్కువగా ఉండని మెటీరియల్‌లను అధిక ఖచ్చితత్వంతో ల్యాపింగ్ చేయడానికి మరియు పాలిష్ చేయడానికి అనుకూలంగా ఉంటుంది.
హైడ్రోక్వల్ స్టాండర్డ్ పాలీక్రిస్టలైన్ (HSPH) డైమండ్ స్లర్రీ - హైడ్రో-ఆధారిత పాలీక్రిస్టలైన్ డైమండ్ స్లర్రీ అధిక-పీడన అధిక-ఉష్ణోగ్రత డైమండ్ కణాలతో తయారు చేయబడింది, ఇది అధిక ఖచ్చితత్వంతో ల్యాపింగ్ చేయడానికి మరియు మోహ్స్ స్కేల్‌పై చాలా ఎక్కువగా లేని పదార్థాలను పాలిష్ చేయడానికి అనువైన ప్రామాణిక సూత్రీకరణ మ్యాట్రిక్స్‌లో ఉంటుంది.
హైడ్రోక్వల్ అడ్వాన్స్‌డ్ మోనోక్రిస్టలైన్ (HAM) డైమండ్ స్లర్రీ- హైడ్రో-ఆధారిత మోనోక్రిస్టలైన్ డైమండ్ స్లర్రీని అధిక-పీడన అధిక-ఉష్ణోగ్రత డైమండ్ రేణువులతో తయారు చేసిన అధునాతన ఫార్ములేషన్ మ్యాట్రిక్స్‌లో మోహ్స్ స్కేల్‌లో అధిక ఖచ్చితత్వంతో ల్యాపింగ్ చేయడానికి మరియు మెటీరియల్‌ని పాలిష్ చేయడానికి అనుకూలంగా ఉంటుంది.
హైడ్రోక్వల్ స్టాండర్డ్ మోనోక్రిస్టలైన్ (HSM) డైమండ్ స్లర్రీ- హైడ్రో-ఆధారిత మోనోక్రిస్టలైన్ డైమండ్ స్లర్రీ, అధిక-పీడన అధిక-ఉష్ణోగ్రత డైమండ్ కణాలతో తయారు చేయబడిన ఒక ప్రామాణిక సూత్రీకరణ మ్యాట్రిక్స్‌లో అధిక ఖచ్చితత్వంతో ల్యాపింగ్ చేయడానికి మరియు మోహ్స్ స్కేల్‌లో అధిక పదార్థాలను పాలిష్ చేయడానికి అనుకూలంగా ఉంటుంది.